Nguyên tắc xử lý tháp hấp thụ khí thải

Nguyên tắc cơ bản là sử dụng sự tiếp xúc giữa khí và chất lỏng để truyền các chất ô nhiễm trong khí vào chất lỏng, sau đó tách khí sạch khỏi chất lỏng bị ô nhiễm để đạt được mục đích làm sạch không khí.

Sau khi [chất ô nhiễm dạng hạt] trong luồng không khí tiếp xúc với chất tẩy rửa, các giọt hoặc màng lỏng khuếch tán gắn liền với các hạt trong luồng không khí, hoặc làm ẩm các hạt, để các hạt đạt được mục đích tách và loại bỏ bằng lực hấp dẫn và lực quán tính. [Chất gây ô nhiễm dạng khí] Sau đó, thông qua rối loạn dòng chảy, khuếch tán phân tử và các hiện tượng khác của truyền tải khối lượng và phản ứng hóa học truyền vào chất lỏng rửa để đạt được mục đích tách khỏi khí vào dòng. Và hóa chất có thể được thêm vào chất tẩy rửa để kiểm soát các chất có mùi khí theo cách hấp thụ.

Khí thải được xử lý bằng cách đổ đầy tháp rửa và chất lỏng thu được được xử lý theo cách hấp thụ ngược, tức là chất lỏng được phun xuống dưới dạng sương mù (hoặc giọt nước nhỏ) từ đỉnh tháp. Khí thải thì từ đáy tháp (dòng chảy ngược) đạt được mục đích tiếp xúc với chất lỏng khí. Phương pháp xử lý này có thể làm mát nhiệt độ khí thải, điều hòa khí và loại bỏ hạt. Sau khi trải qua quá trình khử sương mù, nó được thải vào khí quyển.

"Phương pháp plasma", áp dụng xung điện áp cao tần plasma cung cấp điện và thiết bị xả tấm răng, làm cho nó tạo ra cường độ cao, nồng độ cao, năng lượng điện cao của các gốc tự do hoạt động, trong thời gian mili giây, phản ứng oxy hóa và khử ngay lập tức đối với các phân tử khí thải có hại, phân hủy một phần lớn các chất gây ô nhiễm trong khí thải thành carbon dioxide và nước và các chất dễ xử lý. Công nghệ lọc plasma đề cập đến việc sử dụng xả corona xung để tạo ra các electron năng lượng cao, các electron, ion, gốc tự do và các hạt trung tính liên tục bắn phá các phân tử có mùi với tốc độ từ 3 triệu đến 30 triệu lần mỗi giây, khử kích hoạt, ion hóa, cracking các thành phần trong khí thải công nghiệp, làm cho nó xảy ra một loạt các phản ứng hóa học phức tạp như oxy hóa, tồn tại trong plasma (OH-, O-2 H+, O3) trực tiếp mở liên kết phân tử giữa các phân tử khí hữu cơ, làm cho khí độc hại phân hủy, cuối cùng thải ra CO2, H2O và các chất vô hại khác, đồng thời tạo ra một lượng lớn các ion âm có thể làm sạch không khí.

Tính năng chức năng

1. Nó có hiệu quả làm sạch cao, có thể làm sạch nhiều chất ô nhiễm cùng một lúc;

2. Thiết bị có hiệu suất chống cháy được bảo vệ tự động bằng cách sử dụng quá tải, rò rỉ điện và tắt nguồn mở cửa.

3, sản phẩm thiết kế mô-đun sản xuất, cài đặt dễ dàng và bảo trì thuận tiện,

4. Kích thước thiết bị nhỏ, cấu trúc nhỏ gọn, quá trình trưởng thành an toàn và ổn định

5. Ít đầu tư thiết bị, chi phí vận hành thấp và hiệu quả làm sạch cao, không có đặc điểm ô nhiễm thứ cấp

6, ngoại hình đẹp, sức đề kháng gió nhỏ, tiếng ồn thấp, chống ăn mòn mạnh, tuổi thọ dài.

Địa điểm áp dụng

Công nghiệp điện tử, công nghiệp sản xuất chất bán dẫn, công nghiệp sản xuất PCB, công nghiệp sản xuất LCD, công nghiệp kim loại thép, công nghiệp mạ và xử lý bề mặt kim loại, quy trình tẩy axit, công nghiệp nhuộm/dược phẩm/hóa chất, khử mùi/trung hòa clo, loại bỏ khí thải đốt SOx/NOx, các xưởng sơn ô nhiễm không khí hòa tan trong nước khác, in mực, xưởng phun, hóa chất, gia công cơ khí, dược phẩm, cao su, thực phẩm, in và nhuộm, làm giấy, sản xuất bia và các quá trình sản xuất khác.